RIE反应离子刻蚀

　　PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。
●  直开式设计允许快速装卸晶圆
●  出色的刻蚀控制和速率测定
●  出色的晶圆温度均匀性
●  晶圆可达200mm
●  购置成本低
●  符合半导体行业 S2 / S8标准
系统特点
●  小型系统 —— 易于安置
●  优化的电极冷却系统 —— 衬底温度控制
●  高导通的径向（轴对称）抽气结构 —— 确保能提升工艺均匀性和速率
●  增加<500毫秒的数据记录功能 —— 可追溯腔室和工艺条件的历史记录
●  近距离耦合涡轮泵 —— 抽速高迅速达到所要求的低真空度
●  关键部件容易触及 ——系统维护变得直接简单
●  X20控制系统——大幅提高了数据信息处理能力， 并且可以实现更快更可重复的匹配
●  通过前端软件进行设备故障诊断 —— 故障诊断速度快
●  用干涉法进行激光终点监测 —— 在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 （例如硅上的氧化物），或者用反射法来确定非透明材料（如金属）的边界
●  用发射光谱（OES）实现较大样品或批量工艺的终点监测 —— 监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化，以及用于腔室清洗的终点监测
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